微影半導體首推LED光源投影曝光機

新台灣

微影半導體公司創辦人胡德立（右三）與他的研發團隊

微影半導體股份有限公司(Lithography Semiconductor Equipment Co., LTD)（ＬS E）十五日在台南科學園區舉行產品發表會，正式推出全球第一套採用ＬＥＤ光源投影曝光機的半導體晶片解決方案，為全球半導體產業帶來了一場革命性的突破。

這套創新的曝光機是由微影半導體的創辦人胡德立領導的國際團隊，在英國自主研發的成果，經過了多年的努力和挑戰，終於在今年成功地通過了台灣半導體客戶的驗證，並獲得了預約生產的多套訂單。

胡德立說，他從英國伯明罕大學畢業後，就投入了曝光機的領域，並在台灣多家半導體相關設備公司工作過，學習了各種半導體製程的知識，也認識了許多一線大廠客戶。為了實現夢想，他成立了里梭科技，從曝光機維修翻新服務開始，投入曝光微影系統的製造研發。

胡德立的研發之路，努力最終得到了回報，在二０二二年底將曝光機原型機運到台灣，並成功地通過了台灣半導體客戶的驗證，取得了驚人的成果。在收獲了客戶預定的多套設備訂單後，胡德立決定今年在台灣成立微影半導體股份有限公司，並且宣布將在台灣量產製造曝光機及配套的塗布顯影及檢測設備。

胡德立指出，這套曝光機的優勢如下：全球晶片生產首創採用ＬＥＤ紫外光源，相較於傳統使用的劇毒汞燈，能耗僅為１∕１００，不僅節能，也減少了汞汙染。

自研高景深長焦鏡頭配合ＬＥＤ光源，不但照度超越汞燈系統，還可實現ＧＨＩ線快速分割及合併曝光，可大幅提升曝光品質和效率，從２吋到１２吋的晶圓尺寸，雙面對準系統等，適應各種半導體製程的需求。

塗佈顯影、曝光、檢測三大黃光核心製程技術完全由國人主導自主研發，並將於台灣設廠生產製造，提供客製化「半導體黃光曝光生態平台」Turn-Key服務。