中國自製研發光刻機 ASML 緊張

楊大炮

中國搞定光刻機，ASML緊張了？專家曝這大廠研製：華為生態系的主攻手

中國近年受美國科技制裁影響，光刻設備受進口禁令限制，中國能否自製所需要的高階晶片受到全球關注。

對此，科技力智庫執行長烏凌翔在網路節目《烏鴉．笑笑》中指出，中國已有一座較先進的DUV原型機已交付上海晶圓廠測試，該原型機由上海這公司研發製造，目前仍在調試完善中。

烏凌翔說明，宇量昇科技有限公司為半導體設備製造商新凱來的子公司，位於華為半導體生態系中，主要研發半導體設備製造，尤其主攻曝光系統就是光刻機。美國制裁中國的主要手段為限制先進晶片的出口，禁止輝達H100、H200等AI晶片賣進中國。

烏凌翔指出，新凱來在中國國際半導體展覽會上展示了蝕刻、沉積、離子注入、清洗等幾乎所有半導體製程的所需的製造設備，唯獨沒有曝光設備。中國不止一個團隊在自研自製曝光系統，並同時研發EUV（極紫外光光刻技術）和DUV（深紫外光光刻技術）。

而對於中國在今年下半年將自主開發出EUV的傳言，烏凌翔認為，製造EUV困難度較高，因此自研自製DUV的工作一定會先有所突破。

烏凌翔續指，目前幾乎可以確定中國已有一座較先進的DUV原型機已交付上海某座晶圓廠測試，推測為中芯國際。深圳新凱來和上海宇量昇的主營業務皆為研發半導體設備，外界所關心的光刻機，兩者間應該存在分工關係。因此在上海的原型機其實並非遠從深圳新凱來運至上海，而是上海本地的宇量昇科技所研發製造，且早在今年初便已研發，近半年仍在調試完善中。

烏凌翔進一步說明，即使DUV深紫外光光刻機對荷蘭光科設備公司ASML而言為成熟產品，中國早在美中科技戰開打前便開始進口。川普1.0時代的2019年5月開始制裁華為以來，陸續將中國上百家公司增列於實體清單中，其中華為生態系內的知名公司幾乎無一倖免。

在被制裁前中國境內已有多達200座以上的ASML設備進入中國，主要為DUV。中國想複製DUV，從決定至今已有約5年時間，ASML總公司和全球分公司被挖角加入華為的在100人到200人之間，因此中國會先在DUV有所突破相當合理。

烏凌翔表示，研發成功後仍存在光刻機的產量問題，目前ASML最先進的機台一個小時可以曝光100至200多片，但是中國早前剛開始研發出來時，光刻機產量為個位數。

而目前正在上海調試的光刻機的原型機，起初光刻機產量一個小時也僅個位數。若未來宇量昇科技推出可商品化的光刻機，可能是宇量昇個別公司的一小步，中國DUV的一大步。