日本佳能新發明奈米壓印曝光機

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日本企業佳能（Canon）已將第一台奈米壓印曝光機運送到美國德州電子研究所（Texas Institute for Electronics ），供其研發實驗室使用，此項壓印曝光技術不需要光源，有別於荷蘭晶片製造設備商艾斯摩爾（ASML）生產的極紫外線曝光機（EUV） 。

去年10月，佳能透露，正在將使用奈米壓印曝光技術的半導體製造系統商業化，其第一個實施方案將是一個房間大小的設備，名稱為FPA-1200NZ2C。

現在，佳能已將其中一個奈米壓印曝光機運送給德州電子研究所，這是一個成立於2021年的半導體聯盟，得到德州學奧斯汀分校，以及眾多晶片公司和其他公共部門和學術機構的支持。該機器將用作先進半導體研發和原型生產的一部分。

據佳能稱，與使用更傳統光學方法的競爭對手相比，其奈米壓印製程更便宜，功耗也更少，它不需要光源，而在ASML的最新設備中，光源涉及難以使用的極紫外線波長

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https://youtu.be/rp6ivp7XCAk?si=tEUrW3wLy3ua4Xh-

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奈米壓印裝置是一種像蓋章一樣的，將奈米級別的圖案刻在掩膜上，然後將圖案轉印的技術。使用奈米壓印有兩個優點：與EUV相比，可以減少工藝步驟，並且能將耗電量降至原來的十分之一（表1）


佳能奈米壓印裝置的圖案轉印過程如下。首先，利用佳能的噴墨技術，將液滴狀的抗蝕劑塗佈到晶圓上。然後，將刻有電路圖案的掩膜壓在抗蝕劑上，從上方照射紫外光，使抗蝕劑固化。待固化完成後，再將掩膜剝離