ASML向媒體展示新一代極紫外光微影設備（EUV）約3.8億美元

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晶片製造設備商艾司摩爾（ASML）周五（10日）向媒體展示新一代極紫外光微影設備（EUV）：大小約一輛雙層巴士、重量約兩架空巴A320飛機、價值高達3.5億歐元（約3.8億美元）的High NA EUV，該設備對ASML在1,250億美元的EUV市場保持領導地位至關重要。

ASML預期今年能出貨「數台」High NA EUV。英特爾（Intel）已下了訂單，第一台設備已於去年12月送達該公司奧勒岡廠，預定2025年啟用，開始製造晶片。

這台EUV可在8奈米厚半導體上列印電路，比前一代小1.7倍。電路愈細，晶片上可安裝的電晶體就愈多，處理速度和記憶體的表現就愈佳。ASML高階主管表示，該設備對人工智慧（AI）發展至關重要。

ASML執行長溫彼得（Peter Wennink）上月受訪時表示，AI需要「大量運算能力和數據儲存。如果沒有ASML，沒有ASML的技術，將無法實現。這會是我們業務的一大驅動力」。

ASML發言人莫爾斯（Monique Mols）周五在媒體參觀該公司總部時說，安裝這套重達15萬公斤的系統，要用到250個貨箱、250名工程師，且需時6個月。

ASML從2018年開始銷售的所謂low-NA微影設備，標價是1.7億歐元。